Atacado 40L 50L 150bar Tanque de cilindro de gás oxigênio de alta pureza 5n 99,999% gás oxigênio O2
Visão geral Descrição do produto Cilindro de gás sem costura de alta pressão 40L com certificação ISO/DOT/TPED / Monóxid;
Overview
O gás oxigênio de alta pureza é usado principalmente para oxidação térmica, difusão, deposição química de vapor, gravação de plasma e outros processos de dispositivos semicondutores. Também pode ser utilizado para a fabricação de fibra óptica e tubo de imagem colorido e como gás padrão, gás de correção e gás zero. É usado como fonte de oxidação e reagente para produzir água de alta pureza. Para dispositivos de efeito de campo MOS, a camada de óxido deve ser bastante densa. A oxidação a seco com oxigênio de alta pureza pode atender aos requisitos de produção com estrutura compacta, menos carga positiva e resistência a alta tensão. Misturado com tetrafluoreto de carbono, pode ser usado para gravação a plasma.
Informação básica.
Modelo NÃO. | 50L 200barras |
Ponto de fusão | -218,4 |
Cor do cilindro | Verde ou Cor Personalizada |
Aparência | Incolor |
Marca | Forterra |
Ponto de ebulição | -183 |
Pressão no trabalho | 150bar/200bar |
Pressão de teste | 250bar/300bar |
Padrão de cilindro | ISO9809-3 ou ISO9809-1 |
Nome do Produto | Gás oxigênio de alta pureza |
Pacote de Transporte | Cilindro de gás |
Especificação | 50L 200bar |
Marca comercial | FORTERRA |
Origem | China |
Código HS | 7311009000 |
Capacidade de produção | 5.000.000/ano |
Descrição do produto
Descrição do produto
Cilindro de gás sem costura de alta pressão 40L com certificação ISO/DOT/TPED / Monóxido de carbono/ Oxigênio / Argônio / Cilindro de CO2
GÁS OXIGÊNIOO gás oxigênio de alta pureza é usado principalmente para oxidação térmica, difusão, deposição química de vapor, gravação de plasma e outros processos de dispositivos semicondutores. Também pode ser utilizado para a fabricação de fibra óptica e tubo de imagem colorido e como gás padrão, gás de correção e gás zero. É usado como fonte de oxidação e reagente para produzir água de alta pureza. Para dispositivos de efeito de campo MOS, a camada de óxido deve ser bastante densa. A oxidação a seco com oxigênio de alta pureza pode atender aos requisitos de produção com estrutura compacta, menos carga positiva e resistência a alta tensão. Misturado com tetrafluoreto de carbono, pode ser usado para gravação a plasma.
Você pode gostar
Enviar consulta
Envie agora